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VerSus Reactor
VMF Reactor/SPG膜スパージャーのコラボレーション
要求仕様に沿った専用機開発・カスタマイズ対応・シングルユース対応
特許第6534665号、他特許出願中または登録済
専用コントローラ『S-BOX×10α II』により、PI制御を含む各種パラメーターの変更も簡単にできます。
SPG 膜スパージャー
マイクロバブルを槽内に均一に分散させることができます。
※SPG膜スパージャーは、宮崎県工業技術センターと日揮(株)の共同開発品です。
培養槽内の物理的作用をコントロールする「VMF Reactor」と
優れた微細気泡技術の「SPG 膜スパージャー」とのコラボレーション
「VerSus Reactor」により、さらなる生産効率の向上をお約束します。
■培養事例
CHO細胞による培養比較
VMF Reactorを用い、SPG膜スパージャー有無によるCHO細胞の増殖曲線を示します。SPG膜スパージャーを用いることで、大幅に培養成績が向上する事が判ります。極めて均一性の高い微細気泡により、弱い流動が乱させること無く、高いガス吸収性能は、泡沫層形成の要因となるDO通気流量を大幅に低減させます。トータル性能を大幅に向上させたのがVerSus Reactorです。
CHO細胞による抗体生産比較
せん断応力に対する依存性の高いCHＯ細胞を用い、コントロール8Lから150Lへのスケールアップ結果※を示します。ここでは、実際に市販されている抗体生産を行っています。本結果より、150Lスケールアップ条件においてコントロールの8Lとほぼ同じか、むしろそれを上回る抗体産生量が得られました。このスケールアップは、数値流体計算によりせん断ファクター一定にて実施しており、数値流体解析と培養の併用における優位性を証明しました。
※ 日揮（株）との共同研究成果
| 項目 | 仕様 | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| 製品名 | VerSus Reactor | ||||
| 型式 | VSR-500 | VSR-1500 | VSR-3000 | VSR-10000 | |
| 温度管理方法 | バンドヒータ方式（PID制御）過昇温防止機能付（MAX 80[℃]） | ||||
| 直動伝達方法 | リニアシャフトドライブノンシール式 | ||||
| 通気方式 | ①SPGスパージャー方式 *付属 ，②焼結金属方式 *オプション | ||||
| 性 能 |
温度調節範囲 | 室温＋5～20[℃]（通常37[℃]設定） | |||
| 温度調節精度 | ±0.3[℃]（37[℃]） | ||||
| 最大上下動振幅 | 40[mm] | ||||
| 最大翼速度 | 300[mm/s] | ||||
| 機 能 |
温度設定 | デジタル設定，記録出力 1～5[V] | |||
| 上下動設定 | タッチパネル入力，記録出力 1～10[V] | ||||
| 構 成 |
バンドヒータ | 60[W] | 105[W] | 160[W] | 480[W] |
| 撹拌モータ | 最大出力 800[W] | ||||
| 撹拌翼 | 【標準】VM200 | 【標準】VM100＋VM200 | |||
| 規 格 |
培養槽寸法 | 内径 90×深さ 200 [mm] | 内径 110×深さ 169 [mm] | 内径 140×深さ 203 [mm] | 内径 200×深さ 360 [mm] |
| 培養槽全容量 | 0.5[L] | 1.5[L] | 3[L] | 10[L] | |
| 使用周囲温度範囲 | 10～35[℃] | ||||
| 外形寸法 | W360×H905×D485 [mm] | ||||
| 重量 | 約28[kg] | 約28[kg] | 約30[kg] | 約34[kg] | |
| 定格電源 | AC 100[V]、50/60[Hz] | ||||
| *性能は室温20[℃]、定格電源電圧 AC 100[V], 50[Hz]、無負荷時での値です。 | |||||
| 項目 | 仕様 | |||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 名称 | 培養コントローラ | |||||||||||
| 型式 | S-BOX×10αII | |||||||||||
| 表示範囲・精度 | pH（水素イオン濃度） | 0.00～14.00 [pH] | 表示精度：F.S±0.5[％] | |||||||||
| DO（溶存酸素） | 0.00～20.00 [mg/L] | |||||||||||
| FL（O2流量） | 0.00～20.00 [mL/min] | |||||||||||
| 制御設定範囲 | pH（水素イオン濃度） | 0.00～14.00 [pH] | ||||||||||
| DO（溶存酸素） | 0.00～10.00 [mg/L] | |||||||||||
| FL（O2流量） | 0.00～20.00 [mL/min] | |||||||||||
| 制御出力 | pH（水素イオン濃度） | ON/OFF制御 | ||||||||||
| DO（溶存酸素） | O2加減算ステップ制御 | |||||||||||
| O2及びN2ON/OFF制御 | ||||||||||||
| O2PI制御(スロープセット方式：time, %) | ||||||||||||
| FL（O2流量） | PI制御（スロープセット方式：time、％） | |||||||||||
| 記録出力 | pH（水素イオン濃度） | データロガー付属 DC 0～5 [V] ※オプションで 負荷率出力可 |
出力精度：F.S±0.5[％] | |||||||||
| DO（溶存酸素） | ||||||||||||
| FL（O2流量） | ||||||||||||
| 撹拌周波数 | ||||||||||||
| 温度 | データロガー付属 DC 1～5 [V] |
|||||||||||
| 電源 | AC100[V]、50/60[Hz] | |||||||||||
| ケース材質 | SUS304（塗装なし）、屋内型、非防滴、非防爆仕様 | |||||||||||
| 設置方法 | 屋内卓上型 | |||||||||||
| 外形寸法・重量 | W350×H530×D400 [mm] ・ 約15[kg] | |||||||||||
| 周囲環境条件 | 温度 | 5～45 [℃] | 湿度 | 20～85 ％RH（結露無きこと） | ||||||||
| センサ | 標準：メトラー・トレド社製 ポーラロ式DOセンサ/pHセンサ | |||||||||||
| ｵﾌﾟｼｮﾝ：オートマチックシステムリサーチ社製 光学式DOセンサ | ||||||||||||
| ユーティリティ | 電源 | AC100[V]コンセント×2ヶ口（コントローラ本体、記録計用） | ||||||||||
| N2 | 流量 50[mL/min]以下 供給圧力0.2[MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手 |
|||||||||||
| O2 | 流量 20[mL/min]以下、供給圧力0.2[MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手 |
|||||||||||
| CO2 | 流量 50[mL/min]以下、供給圧力0.2[MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手 |
|||||||||||
| AIR | 流量 150[mL/min]以下、供給圧力0.2[MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手 |
|||||||||||
| ※N2、O2、CO2、AIRともに腐食成分、ダスト、オイルミストを含まない乾燥気体であること | ||||||||||||