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培養装置

MRF-RB Reactor

RB Mixing Sytemと組み合わせた低剪断型高分散撹拌システム

要求仕様に沿った専用機開発・カスタマイズ対応・シングルユース対応

MRF-RB Reactor
MRF-RB Reactorは、高性能撹拌装置として開発され、最大3000tonクラスのバイオマスリアクターに採⽤実績を有する低剪断型高効率撹拌システム” サタケスーパーミックス® RB Mixing System”を搭載したバイオリアクターです。
境界層効果と、竜巻の原理を応⽤した次世代型のミキシングシステムであり、低剪断・低動力にて優れた均一分散性能を有しており、液面変動のない連続培養を基本とする培養条件であれば、藻類培養に限らず動物細胞培養、再生医療分野での培養に最適です。極めて容易に大型化も可能であり、研究段階から実機に向けた生産検討に最適です。別途、シングルユース化等のカスタマイズにもお応えいたします。

高効率ミキシングシステムを搭載した
低動力・低剪断作⽤の連続培養装置。

RB Mixing system

撹拌は一般的には、インペラによって液を流動化させて行います。RBミキシングシステムにおけるインペラの役目は、積極的な撹拌ではありません。ヒントは自然界の流れと整流作⽤、そして家屋をも吸い上げてしまう竜巻にありました。その“ 整流作⽤と竜巻を撹拌槽内で造り出したらどうなるのか” と考えたのです。
インペラによって撹拌槽内に旋回流を作り出し、撹拌槽底部で中心に向かう旋回流(境界層効果)を効率良く竜巻状の上昇流に交換する『放射状ブレード(Radial Blade)』から構成され、従来の撹拌に対する概念からは考えられないフローパターンを形成するシステムとして確立しました。RB の由来は、このRadial Blade の頭文字となります。旋回流が主流のため、翼近傍での相対速度差を減じることにより、極めて低剪断作⽤ながら、培養槽内における細胞の均一分散性に優れた能力を発揮、バイオ分野をはじめ製薬、創エネルギー(水処理分野)などにおいて、効率よく撹拌を行うことが可能です。

撹拌方式の比較表

※Vtlp:翼先端終速度

撹拌方式 最大上昇流速度係数
%(対Vtlp※比率)
翼・液相対速度差係数
(剪断速度比率)
撹拌可能な最大縦長比
(液深H / 槽径D)
SUPER-MIX
RB mixing system
87 0.4 5以上可能
4枚邪魔板付撹拌 30 0.8 2程度迄
邪魔板無し撹拌 15 0.4 1.5程度迄
撹拌方式の比較表

従来方式

RB Mixing System

CFDシミュレーション解析結果

CFDシミュレーション解析結果

高液深大循環流形成

流動作用(上)と剪断応力(下)


項目 仕様
製品名 MRF-RB Reactor
型式 MRF-RB3000 MRF-RB10000
温度管理方法 バンドヒータ方式(PID制御)過昇温防止機能付(MAX 80[℃])
直動伝達方法 マグネットドライブノンシール式
通気方式 シラスポーラスガラス(SPG)膜方式 / 焼結金属方式

温度調節範囲 室温+5~20[℃](通常37[℃]設定)
温度調節精度 ±0.3[℃](37[℃])
回転範囲 5~200[min-1]

温度設定 デジタル設定,記録出力 1~5[V]
回転数設定 タッチパネル入力,記録出力 0~10[V]

バンドヒータ 160[W] 480[W]
撹拌モータ 最大出力 100[W]
撹拌翼 【標準】RB Mixing System

培養槽寸法 内径 140×深さ 203 [mm] 内径 200×深さ 360 [mm]
培養槽全容量 3[L] 10[L]
使用周囲温度範囲 10~35[℃]
外形寸法 W360×H905×D485 [mm]
重量 約30[kg] 約34[kg]
定格電源 AC 100[V]、50/60[Hz]
*性能は室温20[℃]、定格電源電圧 AC 100[V], 50[Hz]、無負荷時での値です。

項目 仕様
名称 培養コントローラ
型式 S-BOX×10αII
表示範囲・精度 pH(水素イオン濃度) 0.00~14.00 [pH] 表示精度:F.S±0.5[%]
DO(溶存酸素) 0.00~20.00 [mg/L]
FL(O2流量) 0.00~20.00 [mL/min]
制御設定範囲 pH(水素イオン濃度) 0.00~14.00 [pH]
DO(溶存酸素) 0.00~10.00 [mg/L]
FL(O2流量) 0.00~20.00 [mL/min]
制御出力 pH(水素イオン濃度) ON/OFF制御
DO(溶存酸素) O2加減算ステップ制御
O2及びN2ON/OFF制御
O2PI制御(スロープセット方式:time, %)
FL(O2流量) PI制御(スロープセット方式:time、%)
記録出力 pH(水素イオン濃度) データロガー付属
DC 0~5 [V]
※オプションで
負荷率出力可
出力精度:F.S±0.5[%]
DO(溶存酸素)
FL(O2流量)
撹拌周波数
温度 データロガー付属
DC 1~5 [V]
電源 AC100[V]、50/60[Hz]
ケース材質 SUS304(塗装なし)、屋内型、非防滴、非防爆仕様
設置方法 屋内卓上型
外形寸法・重量 W350×H530×D400 [mm] ・ 約15[kg]
周囲環境条件 温度 5~45 [℃] 湿度 20~85 %RH(結露無きこと)
センサ 標準:メトラー・トレド社製 ポーラロ式DOセンサ/pHセンサ
オプション:オートマチックシステムリサーチ社製 光学式DOセンサ
ユーティリティ 電源 AC100[V]コンセント×2ヶ口(コントローラ本体、記録計用)
N2 流量 50[mL/min]以下 供給圧力0.2[MPa]
接続口φ6チューブワンタッチ継手
O2 流量 20[mL/min]以下、供給圧力0.2[MPa]
接続口φ6チューブワンタッチ継手
CO2 流量 50[mL/min]以下、供給圧力0.2[MPa]
接続口φ6チューブワンタッチ継手
AIR 流量 150[mL/min]以下、供給圧力0.2[MPa]
接続口φ6チューブワンタッチ継手
※N2、O2、CO2、AIRともに腐食成分、ダスト、オイルミストを含まない乾燥気体であること

項目 仕様
名称 培養コントローラ
型式 S-BOX×10 Simple
表示範囲・精度 pH(水素イオン濃度) 0.00~14.00 [pH] 表示精度:F.S±0.5[%]
DO(溶存酸素) 0.00~20.00 [mg/L]
制御設定範囲 pH(水素イオン濃度) 0.00~14.00 [pH]
DO(溶存酸素) 0.00~10.00 [mg/L]
制御出力 pH(水素イオン濃度) ON/OFF制御
DO(溶存酸素) ON/OFF制御
記録出力 pH(水素イオン濃度) データロガー付属
DC 0~5 [V]
出力精度:F.S±0.5[%]
DO(溶存酸素)
電源 AC100[V]、50/60[Hz]
ケース材質 SUS304(塗装なし)、屋内型、非防滴、非防爆仕様
設置方法 屋内卓上型
外形寸法・重量 W260×H350×D300 [mm] ・ 約12[kg]
周囲環境条件 温度 5~45 [℃] 湿度 20~85 %RH(結露無きこと)
センサ 標準:オートマチックシステムリサーチ社製 光学式DOセンサ
標準:メトラー・トレド社製 pHセンサ
ユーティリティ 電源 AC100[V]コンセント×2ヶ口(コントローラ本体、記録計用)
O2 流量 20[mL/min]以下、供給圧力0.2[MPa]
接続口φ6チューブワンタッチ継手
CO2 流量 50[mL/min]以下、供給圧力0.2[MPa]
接続口φ6チューブワンタッチ継手
AIR 流量 150[mL/min]以下、供給圧力0.2[MPa]
接続口φ6チューブワンタッチ継手
※O2、CO2、AIRともに腐食成分、ダスト、オイルミストを含まない乾燥気体であること