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N2/sllec[ ]L/g[ ydobitnA fo .cnoC]Lm度濃胞細生　—　SPG膜スパージャーあり　—　SPG膜スパージャーなし■S-BOX×10αII仕様 O2仕様培養コントローラS-BOX×10αII0.00～14.00 [-]0.00～20.00 [mg/L]0.00～20.00 [mL/min]0.00～14.00 [-]0.00～10.00 [mg/L]0.00～20.00 [mL/min]ON／OFF制御O2加減算ステップ制御O2及びN2 ON／OFF制御O2 PI制御（スロープセット方式：TIME、%）PI制御（スロープセット方式：TIME、%）データロガー付属DC0～5 [V]（オプションで負荷率出力可）DC 1～5 [V]SUS304（塗装なし）、非防滴屋内卓上型W350×D400×H530 [mm]　・　約15 [kg]湿度メトラー・トレド製　ポーラロ式DOセンサ／pHセンサ（オプション：オートマチックシステムリサーチ製　光学式DOセンサ）20～85 [％]RH（結露なき事）表示精度： ±0.5 [％] F.S.出力精度： ±0.5 [％] F.S.VMF Reactor上下往復動式　　　—　Volume：8L　　　—　Volume：150L項目名称型式制御内容pH（水素イオン濃度）表示範囲・精度pH（水素イオン濃度）制御設定範囲pH（水素イオン濃度）制御方式pH（水素イオン濃度）記録出力ケース材質設置方法外形寸法・重量周囲環境条件温度センサ電源ユーティリティCO2AIR培養時間 [hr]Cultivation time [day]VMF Reactor上下往復動式pH制御、DO制御（溶存酸素）、FL（O₂流量）、ローラーポンプON／OFFDO（溶存酸素）FL（O2流量）DO（溶存酸素）FL（O2流量）DO（溶存酸素）FL（O2流量）DO（溶存酸素）FL（O2流量）撹拌周波数温度 5～45 [℃]AC100 [V]、50／60 Hz、コンセント2ヶ口（コントローラ本体、記録計用）流量　50 [mL/min]以下　供給圧力0.2 [MPa]接続口φ6チューブワンタッチ継手流量 20 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa]接続口φ6チューブワンタッチ継手流量 50 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa]接続口φ6チューブワンタッチ継手流量　150 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa]接続口φ6チューブワンタッチ継手*N2、O2、CO2、AIRともに腐食成分、ダスト、オイルミストを含まない乾燥気体であることVMF Reactorを用い、SPG 膜スパージャー有無による CHO 細胞の増殖曲線を示します。SPG 膜スパージャーを用いることで、大幅に培養成績が向上する事が判ります。極めて均一性の高い微細気泡により、弱い流動が乱させること無く、高いガス吸収性能は、泡沫層形成の要因となる DO 通気流量を大幅に低減させます。トータル性能を大幅に向上させたのが VerSus Reactorです。剪断応力に対する依存性の高い CHO細胞を用い、コントロール 8L から 150L へのスケールアップ結果※を示します。ここでは、実際に市販されている抗体生産を行っています。本結果より、150L スケールアップ条件においてコントロールの 8L とほぼ同じか、むしろそれを上回る抗体産生量が得られました。このスケールアップは、数値流体計算により剪断ファクター一定にて実施しており、数値流体解析と培養の併用における優位性を証明しました。* 日揮（株）との共同研究成果CHO細胞による培養（生細胞濃度）の比較Regenerative medicine / Low shear resistance cellAnimal cell cultureCHO細胞による抗体生産比較15■培養事例培養槽内の物理的作用をコントロールする「VMF Reactor」と優れた微細気泡技術の「SPG膜スパージャー」とのコラボレーション「VerSus Reactor」により、さらなる生産効率の向上をお約束します。