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N2/sllec[ ]Lm度濃胞細生—　VMF Reactor（上下往復動式）—　フラットタービン（回転式）CFDシミュレーション解析結果より、VMF Reactor(上下往復動式)は回転式と比較して培養槽内の剪断応力の均一性が高いことが判ります。また、同一エネルギー条件下における均一混合性能は回転式と比較してVMF Reactorは極めて優れていることが判ります。■培養事例■S-BOX×10αII仕様 VMF Reactor【上下往復動式】項目名称型式制御内容pH（水素イオン濃度）表示範囲・精度pH（水素イオン濃度）制御設定範囲pH（水素イオン濃度）制御方式pH（水素イオン濃度）記録出力ケース材質設置方法外形寸法・重量周囲環境条件温度センサ電源ユーティリティCO2AIRO2pH制御、DO制御（溶存酸素）、FL（O₂流量）、ローラーポンプON／OFFDO（溶存酸素）FL（O2流量）DO（溶存酸素）FL（O2流量）DO（溶存酸素）FL（O2流量）DO（溶存酸素）FL（O2流量）撹拌周波数温度 5～45 [℃]AC100 [V]、50／60 Hz、コンセント2ヶ口（コントローラ本体、記録計用）流量　50 [mL/min]以下　供給圧力0.2 [MPa]接続口φ6チューブワンタッチ継手流量 20 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa]接続口φ6チューブワンタッチ継手流量 50 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa]接続口φ6チューブワンタッチ継手流量　150 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa]接続口φ6チューブワンタッチ継手*N2、O2、CO2、AIRともに腐食成分、ダスト、オイルミストを含まない乾燥気体であること仕様培養コントローラS-BOX×10αII0.00～14.00 [-]0.00～20.00 [mg/L]0.00～20.00 [mL/min]0.00～14.00 [-]0.00～10.00 [mg/L]0.00～20.00 [mL/min]ON／OFF制御O2加減算ステップ制御O2及びN2 ON／OFF制御O2 PI制御（スロープセット方式：TIME、%）PI制御（スロープセット方式：TIME、%）データロガー付属DC0～5 [V]（オプションで負荷率出力可）DC 1～5 [V]SUS304（塗装なし）、非防滴屋内卓上型W350×D400×H530 [mm]　・　約15 [kg]湿度メトラー・トレド製　ポーラロ式DOセンサ／pHセンサ（オプション：オートマチックシステムリサーチ製　光学式DOセンサ）20～85 [％]RH（結露なき事）表示精度： ±0.5 [％] F.S.出力精度： ±0.5 [％] F.S.要求仕様に沿ったシステム開発・カスタマイズも可能です。詳しくは弊社バイオ事業部までご連絡下さい。̶お問い合せ先̶　バイオ事業部　TEL : 048-471-9202 E-mail：bio@satake.co.jpCFDシミュレーション解析結果フラットタービン【回転式】培養時間 [hr]（バッチ培養Pv=const.）VMF Reactorは、培養槽内において細胞に最適な物理的作用を与えることで、細胞培養に最適な環境を作り出し、回転式バイオリアクターの凌ぐ高い生細胞濃度・生細胞率を維持します。剪断耐性の高い細胞ではこの優位性は発揮できませんが、剪断耐性の低い細胞では発揮します。結果として生産物の産生量を増大させます。混合開始CHO-S細胞による培養（生細胞濃度）の比較フラットタービン（回転式）VMF Reactor（上下往復動式）２sec４secRegenerative medicine / Low shear resistance cellAnimal cell culture(Pv=const.)６sec10sec混合完了13■剪断応力の比較■混合状況の比較剪断作用の抑制と良好な混合作用を両立し培養に最適な環境を作りだします！！