VMF Reactor | シングルユースバイオリアクター(SUB)シリーズ | ラインアップ | 佐竹マルチミクスバイオ事業部

VMF Reactor上下往復動式バイオリアクター

卓上型0.5～10L

自立型50～1000 L

再生医療・iPS細胞・動物細胞培養向け

●剪断耐性が低い細胞培養に最適

●楕円形状専用インペラの上下往復動式により優れた混合性能と穏やかな撹拌を両立

●一般的な回転式と異なり、剪断力のコントロールが容易

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タイプバリエーション

卓上型
0.5～10L

自立型
50～1000 L

製品詳細

仕様表（卓上型）

仕様表（自立型）

ボトル／バッグ

優れた混合性能と穏やかな撹拌を両立した
上下動往復動式バイオリアクター

VMFシングルユースバイオリアクターは、当社が独自開発した上下往復動式バイオリアクターです。従来の回転式バイオリアクターと異なり、シール部にベローズを採用し、培養バッグ内に回転摺動部やベアリングが存在しない構造を有しています。
上下往復動の速度・ストローク・動作波形制御、定常・非定常制御が可能であり、これらの制御により従来の回転式バイオリアクターでは困難であった剪断耐性の低い細胞に対し、低剪断性を担保しながら優れた均一混合・均一分散（細胞分散）作用を発揮します。剪断力に弱い細胞に優しい環境をつくることで様々な細胞の大量培養に成功した実績があります。^※
制御装置で培養条件の最適化が可能です。また、制御装置は各目的に応じた仕様にカスタマイズすることも可能です。
当社はスケールアップに関するノウハウもあります。ラボから生産機へのスケールアップにお困りの場合はぜひご相談下さい。

※【大量培養実績のニュースリリース】

・Brittleタイプ1 型糖尿病細胞治療を目的とした均質なヒトiPS 細胞由来膵島細胞の大量培養生産シングルユースシステムの実用化に向けた共同開発の開始

・がん免疫療法を目指したiPS 細胞由来NK 細胞大量培養を実現！ヘリオス社へ治験製品製造用シングルユース自動培養システムの導入が完了

・メガカリオン社がiPS 血小板の治験において、1 例目の投与に成功！当社バイオリアクターによりiPS 血小板大量生産を実現

・世界初！上下動撹拌培養装置“VMFリアクター”を用いたiPS細胞による反転型脳オルガノイドの誘導成功

剪断作用抑制と
良好な混合作用の両立により
培養に最適な環境を作り出します

従来の回転式は局所的に剪断応力の強いところ（赤色）がありますが、
上下動往復式はありません。

上下往復動式はゆっくりとした動きですが、素早く混合できます。

CHO-S細胞による培養比較

VMF Reactorは、培養槽内において細胞に最適な物理的作用を与えることで、細胞培養に最適な環境を作り出し、回転式バイオリアクターの凌ぐ高い生細胞濃度・生細胞率を維持します。剪断耐性の高い細胞ではこの優位性は発揮できませんが、剪断耐性の低い細胞では発揮します。結果として生産物の産生量を増大させます。

（バッチ培養Pv=const.）

バイオリアクター（卓上型）仕様制御装置（卓上型）仕様

VMF-Reactor (卓上型)仕様

項目		仕様
製品名		VMF Reactor
型式		VMF-05SUB	VMF-1/3SUB	VMF-10SUB
温度管理方法		バンドヒータ方式（PID制御）※過昇温防止機能付（MAX 60 [℃]）
直動伝達方式		リニアシャフトドライブノンシール式
通気方式		上面通気／（オプション：焼結金属方式）
性能^※1	温度調整範囲	室温＋5～20 [℃]（通常37 [℃]設定）
	温度調整精度	±0.3 [℃]（37 [℃]）
	最大上下動ストローク	40 [mm]
	最大翼速度	300 [mm/s]
機能	温度設定	タッチパネル入力、記録出力 DC1～5 [V]
機能	上下動設定	タッチパネル入力、記録出力 DC0～5 [V]
構成	バンドヒータ出力	16 [W]	60 [W]	230 [W]
	モータ出力	最大出力 800[W]
	撹拌翼	VM200	VM100＋VM200^※2
培養槽	寸法	内径 94／87×深さ 110 [mm]	内径 159／138×深さ 202 [mm]	内径206×深さ 360 [mm] ※シングルユースバッグ
培養槽	仕込容量	0.25~0.3 [L]	0.8~1.2 / 1.8~2.5 [L]	8~9 [L]
使用周囲温度範囲		10～35 [℃]
装置外形寸法		W360×D485×H905 [mm]
装置重量		約28 [kg]	約30 [kg]	約34 [kg]
電源		AC 100 [V]、50／60 [Hz]

※１　性能は室温20[℃]、電圧AC100[V]、50[Hz]、無負荷時での値です。

※２　仕込み容量によりVM200のみの場合があります。

S-BOX×10αII 仕様

項目	仕様
名称	培養コントローラ
型式	S-BOX×10αII
制御内容	pH制御、DO制御（溶存酸素）、FL（O₂流量）、ローラーポンプON／OFF
表示範囲・精度	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]		表示精度： ±0.5 [％] F.S.
	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]
	DO（溶存酸素）		0.00～20.00 [mg/L]
	DO（溶存酸素）		0.00～20.00 [mg/L]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
制御設定範囲	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]
	pH（水素イオン濃度）		0.00～14.00 [-]
	DO（溶存酸素）		0.00～10.00 [mg/L]
	DO（溶存酸素）		0.00～10.00 [mg/L]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
	FL（O₂流量）		0.00～20.00 [mL/min]
制御出力	pH（水素イオン濃度）		ON／OFF制御
	pH（水素イオン濃度）		ON／OFF制御
	DO（溶存酸素）		O₂加減算ステップ制御
			O₂加減算ステップ制御
			O₂及びN₂ON／OFF制御
			O₂及びN₂ON／OFF制御
			O₂PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
			O₂PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
	FL（O₂流量）		PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
	FL（O₂流量）		PI制御（スロープセット方式：TIME、%）
記録出力	pH（水素イオン濃度）		データロガー付属 DC 0～5 [V] （オプションで負荷率出力可）		出力精度： ±0.5 [％] F.S.
	pH（水素イオン濃度）
	DO（溶存酸素）
	DO（溶存酸素）
	FL（O₂流量）
	FL（O₂流量）
	撹拌周波数


	温度		DC 1～5 [V]


ケース材質	SUS304（塗装なし）、非防滴
設置方法	屋内卓上型
外形寸法・重量	W350×D400×H530 [mm]　・　約15 [kg]
周囲環境条件	温度	5～45 [℃]	湿度	20～85 [％]RH（結露無きこと）
センサ	メトラー・トレド製　ポーラロ式DOセンサ／pHセンサ


	(オプション：オートマチックシステムリサーチ製　光学式DOセンサ）


ユーティリティ	電源	AC100 [V]　50／60 Hz　コンセント2ヶ口（コントローラ本体、記録計用）
	N₂	流量　50 [mL/min]以下　供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	O₂	流量 20 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	CO₂	流量 50 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	AIR	流量　150 [mL/min]以下、供給圧力0.2 [MPa] 接続口φ6チューブワンタッチ継手
	※N₂、O₂、CO₂、AIRともに腐食成分、ダスト、オイルミストを含まない乾燥気体であること

バイオリアクター
（自立型）仕様制御装置50/200L
（自立型）仕様制御装置500/1000L
（自立型）仕様

VMF-Reactor(自立型) 仕様

項目		仕様
製品名		VMF-Reactor
型式		VMF-50SUB	VMF-200SUB	VMF-500SUB	VMF-1000SUB
温度管理方法		ジャケット温調水循環ユニット　（オプション:ラバーヒータ）
直動伝達方式		リニアシャフトドライブノンシール式
通気方式		シラスポーラスガラス（SPG）膜方式/焼結金属方式　（選択式）
性能	温度調整範囲	室温＋5～20 [℃]（通常37 [℃]設定）
	温度調整精度	±0.3 [℃]（37 [℃]）
	最大上下動ストローク	100 [mm]		400 [mm]	500 [mm]
	最大翼速度	800 [mm/s]
機能	温度設定	タッチパネル入力、記録出力 DC1～5 [V]
機能	上下動設定	タッチパネル入力、記録出力 DC0～5 [V]
構成	モータ出力	最大出力 800[W]
構成	撹拌翼	VM100＋VM200
培養槽	寸法	内径370×深さ 724 [mm]	内径590×深さ 1015 [mm]	内径800×深さ 1620 [mm]	内径1000×深さ 2001 [mm]
培養槽	仕込容量	50 [L]	200 [L]	500 [L]	1000 [L]
使用周囲温度範囲		5~40 [℃]
装置外形寸法		W835×D800×H2055 [mm]		W1295×D1200×H3310 [mm]
装置重量		約600 [kg]		約900 [kg]
電源		AC 200 [V]、50／60 [Hz]

*性能は室温20 [℃]、電圧 AC 100 [V]、 50／60 [Hz]、無負荷時での値です。

制御装置S-BOX×50/200 BX 仕様

項目	仕様
名称	培養コントローラ
型式	S-BOX ×50／200BX
制御内容	pH、 DO（溶存酸素）、 FL（O₂流量）、TH（温度）、上下動ストローク、ローラーポンプON／OFF
表示範囲・精度	培養槽内温度	0.0～60.0 [℃]		表示精度：±0.5 [％] F.S.	焼結金属スパージャ	O₂-1 流量	1.0～20 [L/min]	表示精度：±0.5 [％] F.S.
	上下動ストローク	0.0～400.0 [mm]				CO₂-2 流量	1.0～20 [L/min]
	pH(水素イオン濃度）	3.00～10.00 [-]				Air-2 流量	1.0～20 [L/min]
	DO(溶存酸素）	0.0～250.0 [％]				N₂流量	2.5～50 [L/min]
	DCO₂（溶存二酸化炭素）	0.0～200.0 [％]			培養槽ロードセル重量	0～1019.8 [kg]
	濁度	0.00～0.05~4 [CU]			供給天秤重量	0.1～200 [kg]
	消泡	0.0～100.0 [％]			排出天秤重量	0.1～200 [kg]
	オーバーレイ	CO₂-1 流量	2.5～50 [L/min]		FEED 天秤重量	0～300 [kg]
	オーバーレイ	Air-1 流量	1.0～20 [L/min]		ベントフィルタ温度	0.0～100 [℃]
	槽内圧力	-11.5～75.0 [psi]			温調水タンク温度	0.0～60 [℃]
制御設定範囲	培養槽内温度	5.0～50.0 [℃]			焼結金属スパージャ	O₂-1 流量	1.0～20 [L/min]
	上下動撹拌	ストローク	0.0～100.0 [mm]			CO₂-2 流量	1.0～20 [L/min]
	上下動撹拌	速度	0.0～800.0 [mm/s]			Air-2 流量	1.0～20 [L/min]
	pH（水素イオン濃度）	3.00～10.00 [-]				N₂流量	2.5～50 [L/min]
	DO（溶存酸素）	0.0～250.0 [％]			アルカリポンプ回転数	8～408 [rpm]
	AF(消泡)	0.0～100.0 [％]			消泡ポンプ回転数	8～408 [rpm]
	槽内圧力	-11.5～75.0 [psi]			供給ポンプ回転数	8～408 [rpm]
	オーバーレイ	CO₂-1 流量	2.5～50 [L/min]		排出ポンプ回転数	8～408 [rpm]
	オーバーレイ	Air-1 流量	1.0～20 [L/min]		FEED ポンプ回転数	8～408 [rpm]
	供給天秤重量	0.1～200 [kg]			FEED 天秤重量	0.1～300 [kg]
	排出天秤重量	0.1～200 [kg]
制御出力	培養槽内温度	PI制御
		ジャケット温調水循環方式
		加熱	ヒータによる温調水の加熱
		冷却	温調水循環ラインへの冷却水の通水
	上下動撹拌	指定ストローク移動速度設定による定値制御またはプログラム運転制御（指定時間毎にストローク移動速度設定値変更※全4 ステップ）の選択式
	pH（水素イオン濃度）	上限SV 超過①	液相部通気(スパージャ―)のCO₂ガスON／OFF通気制御
		上限SV 超過②	気相部CO₂ガスON／OFF 通気制御
		下限SV 未満	気相部Air ガスのON／OFF通気制御またはアルカリ液のON／OFF 添加制御の選択式
		※①②はそれぞれ独自設定
	DO（溶存酸素）	上限SV 超過①	気相部Air ガスのON／OFF 通気制御またはPI 制御の選択式
		上限SV 超過②	液相部通気(スパージャ―)のAir＋O₂＋CO₂ガスON／OFF 通気制御またはPI 制御の選択式
		※①②はそれぞれ独自設定
	AF(消泡)	上限SV 超過	消泡剤ON／OFF 添加制御
	培養槽内圧力	上限SV 超過	供給ガス全停止(槽内過圧保護)
	精密培地交換	培地供給天秤と培地排出天秤及び培地供給ポンプ、培地排出ポンプにより指定時間に指定培地量を交換
	精密培地交換	※プログラム運転制御機能付(指定時間毎に指定培地量設定値変更　※全30 ステップ）
	FEED 制御	FEED ポンプによるON／OFF 基質添加制御
	FEED 制御	※指定時間、指定重量到達により制御停止
	ベントフィルタ用ヒータ	常時ON
記録出力	培養槽内温度	DC 0~5 [V]		出力精度：±0.5 [％] F.S.	CO₂-1 流量	DC 0~5 [V]		出力精度：±0.5 [％] F.S.
	撹拌周波数				Air-1 流量
	PH（水素イオン濃度）				O₂-1 流量
	DO(溶存酸素)				CO₂-2 流量
	DCO₂(溶存二酸化炭素)				Air-2 流量
	濁度				N₂流量
	AF(消泡)				培養槽ロードセル重量
	槽内圧力				供給天秤重量
	温調水タンク温度				排出天秤重量
	ベントフィルタ温度				FEED 天秤重量
ケース材質	SUS304　＃300バフ仕上
設置方法	屋内自立型
外形寸法・重量	外形寸法 W850×D850×H1229 [mm]　コーナーR 加工　　非防滴　・　180 [kg]
周囲環境条件	温度	5～40 [℃]			湿度	20～90 [％]RH（結露なき事）
センサ	メトラー・トレド製　ポーラロ式DOセンサ／pHセンサ


	（オプション：オートマチックシステムリサーチ製　光学式DOセンサ）


ユーティリティ	電源	AC200 [V]、50／60 Hz、60 [A]　　コンセント6ヶ口（コントローラ本体、記録計用）
	CO₂-1	流量　50 [L/min]以上　供給圧力0.1 [MPa]　４系統　　接続口3/8インチ　チューブワンタッチ継手
	Air -1	流量　20 [L/min]以上　供給圧力0.1 [MPa]　４系統　　接続口1/4インチ　チューブワンタッチ継手
	O₂-1	流量　20 [L/min]以上　供給圧力0.1 [MPa]　４系統　　接続口1/4インチ　チューブワンタッチ継手
	CO₂-2	流量　50 [L/min]以上　供給圧力0.1 [MPa]　４系統　　接続口3/8インチ　チューブワンタッチ継手
	Air -2	流量　20 [L/min]以上　供給圧力0.1 [MPa]　４系統　　接続口1/4インチ　チューブワンタッチ継手
	N₂	流量　50 [L/min]以上　供給圧力0.1 [MPa]　４系統　　接続口3/8インチ　チューブワンタッチ継手
	冷却水	流量　40 [L/min]以上　供給圧力0.1 [MPa]　４系統　　PJ1/2（冷却水循環装置）

制御装置S-BOX×500/100 BX 仕様

項目	仕様
名称	培養コントローラ
型式	S-BOX ×500／1000BX
制御内容	pH、 DO（溶存酸素）、 FL（O₂流量）、TH（温度）、上下動ストローク、ローラーポンプON／OFF
表示範囲・精度	培養槽内温度	0.0～60.0 [℃]		表示精度：±0.5 [％] F.S.	焼結金属スパージャ	O₂-1 流量	2.5～50 [L/min]	表示精度：±0.5 [％] F.S.
	上下動ストローク	0.0～500.0 [mm]				CO₂-2 流量	2.5～50 [L/min]
	PH(水素イオン濃度）	3.00～10.00 [-]				Air-2 流量	2.5～50 [L/min]
	DO(溶存酸素）	0.0～250.0 [％]				N₂流量	5～100 [L/min]
	DCO₂（溶存二酸化炭素）	0.0～200.0 [％]			培養槽ロードセル重量	0～4080 [kg]
	濁度	0.00～0.05~4 [CU]			供給天秤重量	0.1～600 [kg]
	消泡	0.0～100.0 [％]			排出天秤重量	0.1～600 [kg]
	オーバーレイ	CO₂-1 流量	5～100 [L/min]		FEED 天秤重量	0.1～600 [kg]
	オーバーレイ	Air-1 流量	2.5～50 [L/min]		ベントフィルタ温度	0.0～100 [℃]
	槽内圧力	-11.5～75.0 [psi]			温調水タンク温度	0.0～60 [℃]
制御設定範囲	培養槽内温度	5.0～50.0 [℃]			焼結金属スパージャ	O₂-1 流量	2.5～50 [L/min]
	上下動撹拌	ストローク	0.0～500.0 [mm]			CO₂-2 流量	2.5～50 [L/min]
	上下動撹拌	速度	0.0～800.0 [mm/s]			Air-2 流量	2.5～50 [L/min]
	pH（水素イオン濃度）	3.00～10.00 [-]				N₂流量	5～100 [L/min]
	DO（溶存酸素）	0.0～250.0 [％]			アルカリポンプ回転数	8～408 [rpm]
	AF(消泡)	0.0～100.0 [％]			消泡ポンプ回転数	8～408 [rpm]
	槽内圧力	-11.5～75.0 [psi]			供給ポンプ回転数	8～408 [rpm]
	オーバーレイ	CO₂-1 流量	5～100 [L/min]		排出ポンプ回転数	8～408 [rpm]
	オーバーレイ	Air-1 流量	2.5～50 [L/min]		FEED ポンプ回転数	8～408 [rpm]
	供給天秤重量	0.1～600 [kg]			FEED 天秤重量	0.1～600 [kg]
	排出天秤重量	0.1～600 [kg]
制御出力	培養槽内温度	PI制御
		ジャケット温調水循環方式
		加熱	ヒータによる温調水の加熱
		冷却	温調水循環ラインへの冷却水の通水
	上下動撹拌	指定ストローク移動速度設定による定値制御またはプログラム運転制御（指定時間毎にストローク移動速度設定値変更※全4 ステップ）の選択式
	pH（水素イオン濃度）	上限SV 超過①	液相部通気(スパージャ―)のCO₂ガスON／OFF通気制御
		上限SV 超過②	気相部CO₂ガスON／OFF 通気制御
		下限SV 未満	気相部Air ガスのON／OFF通気制御またはアルカリ液のON／OFF 添加制御の選択式
		※①②はそれぞれ独自設定
	DO（溶存酸素）	上限SV 超過①	気相部Air ガスのON／OFF 通気制御またはPI 制御の選択式
		上限SV 超過②	液相部通気(スパージャ―)のAir＋O₂＋CO₂ガスON／OFF 通気制御またはPI 制御の選択式
		※①②はそれぞれ独自設定
	AF(消泡)	上限SV 超過	消泡剤ON／OFF 添加制御
	培養槽内圧力	上限SV 超過	供給ガス全停止(槽内過圧保護)
	精密培地交換	培地供給天秤と培地排出天秤及び培地供給ポンプ、培地排出ポンプにより指定時間に指定培地量を交換
	精密培地交換	※プログラム運転制御機能付(指定時間毎に指定培地量設定値変更　※全30 ステップ）
	FEED 制御	FEED ポンプによるON／OFF 基質添加制御
	FEED 制御	※指定時間、指定重量到達により制御停止
	ベントフィルタ用ヒータ	常時ON
記録出力	培養槽内温度	DC 0~5 [V]		出力精度：±0.5 [％] F.S.	CO₂-1 流量	DC 0~5 [V]		出力精度：±0.5 [％] F.S.
	撹拌周波数				Air-1 流量
	PH（水素イオン濃度）				O₂-1 流量
	DO(溶存酸素)				CO₂-2 流量
	DCO₂(溶存二酸化炭素)				Air-2 流量
	濁度				N₂流量
	AF(消泡)				培養槽ロードセル重量
	槽内圧力				供給天秤重量
	温調水タンク温度				排出天秤重量
	ベントフィルタ温度				FEED 天秤重量
ケース材質	SUS304　＃300バフ仕上
設置方法	屋内自立型
外形寸法・重量	外形寸法 W850×D850×H1229 [mm]　コーナーR 加工　　非防滴　・　180 [kg]
周囲環境条件	温度	5～40 [℃]			湿度	20～90 [％]RH（結露なき事）
センサ	メトラー・トレド製　ポーラロ式DOセンサ／pHセンサ


	（オプション：オートマチックシステムリサーチ製　光学式DOセンサ）


ユーティリティ	電源	AC200 [V]、50／60 Hz、60 [A]　　コンセント6ヶ口（コントローラ本体、記録計用）
	CO₂-1	流量　50 [L/min]以上　供給圧力0.1 [MPa]　４系統　　接続口3/8インチ　チューブワンタッチ継手
	Air -1	流量　20 [L/min]以上　供給圧力0.1 [MPa]　４系統　　接続口1/4インチ　チューブワンタッチ継手
	O₂-1	流量　20 [L/min]以上　供給圧力0.1 [MPa]　４系統　　接続口1/4インチ　チューブワンタッチ継手
	CO₂-2	流量　50 [L/min]以上　供給圧力0.1 [MPa]　４系統　　接続口3/8インチ　チューブワンタッチ継手
	Air -2	流量　20 [L/min]以上　供給圧力0.1 [MPa]　４系統　　接続口1/4インチ　チューブワンタッチ継手
	N₂	流量　50 [L/min]以上　供給圧力0.1 [MPa]　４系統　　接続口3/8インチ　チューブワンタッチ継手
	冷却水	流量　40 [L/min]以上　供給圧力0.1 [MPa]　４系統　　PJ1/2（冷却水循環装置）

シングルユースボトル

詳細はこちら

Product Type	Size	Model
ハードボトル	0.5L	VMH-500
ハードボトル	3L	VMH-1000/3000

シングルユースバッグ

詳細はこちら

Product Type	Size	Model
ソフトバッグ	10L	VMB-10
	50L	VMB-50
	200L	VMB-200
	500L	VMB-500
	1000L	VMB-1000